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X射线衍射K值法测定氧化铁皮中游离α-SiO2的含量

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【作者】 唐梦奇黎香荣刘国文刘顺琼

【Author】 TANG Meng-qi;LI Xiang-rong;LIU Guo-wen;LIU Shun-qiong;Fangchenggang Entry-Exit Inspection and Quarantine Bureau;

【机构】 防城港出入境检验检疫局

【摘要】 目前通常采用焦磷酸法和X射线衍射法测定游离α-Si O2的含量,其中焦磷酸法不能消除氧化铁皮中Fe O、Fe3O4和Fe2O3等焦磷酸难溶物质的影响,不适合用于测定氧化铁皮中的游离α-Si O2。本文建立了采用X射线衍射K值法测定氧化铁皮中游离α-Si O2含量的方法。以α-Al2O3作为参考物质,以α-Si O2(101)衍射峰和α-Al2O3(012)衍射峰作为测量谱峰,将α-Si O2和α-Al2O3(质量比1∶1)混合均匀制备成测量K值的试样,获得K值为7.86,应用此值分析已知游离α-Si O2含量的氧化铁皮样品,游离α-Si O2含量的测定值与实际值相符。该方法的测定范围为游离α-Si O2含量≥0.50%,且方便快速,能够满足进口氧化铁皮检验监管的工作需求。

【基金】 国家质检总局科技计划项目(2014IK268)
【所属期刊栏目】 岩石矿物分析 (2015年05期)
  • 【DOI】10.15898/j.cnki.11-2131/td.2015.05.011
  • 【分类号】TG115.22
  • 【被引频次】2
  • 【下载频次】90
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