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基体偏压对反应磁控溅射氧化铝薄膜结构和性能的影响

耿东森邹长伟丁继成王启民

广东工业大学机电工程学院

摘要:以镍基合金和单晶硅片为基体,采用双极脉冲反应磁控溅射和反应气体闭环控制器(speedflo),在400oC的温度下以高纯度Al靶(99.99%)为靶材,在Ar和O2的气体环境下制备具有多晶结构的氧化铝薄膜。利用EDX、XRD、SEM、努氏显微压痕硬度仪以及应力仪等研究了基体偏压对氧化铝薄膜结构和性能如沉积速率,元素成分,表面形貌,微观结构,维氏硬度和应力等方面的影响。结果表明,随着基体偏压的增加Al2O3薄膜由非晶态转变为γ-Al2O3,Al2O3薄膜转变为晶态后硬度先增加后趋于稳定,同时,薄膜中O/Al逐渐升高并接近理想化学计量比。
会议名称:

第十二届国际真空冶金与表面工程学术会议

会议时间:

2015-08-23

会议地点:

中国辽宁沈阳

  • 专辑:

    工程科技Ⅰ辑; 工程科技Ⅱ辑

  • 专题:

    化学; 材料科学; 工业通用技术及设备

  • 分类号:

    TB383.2;O614.31

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