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真空化学热处理关键技术的进展

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【作者】 韩立民李春阳张勇马登杰

【机构】 天津大学天津大学

【摘要】 本文介绍的是发展迅速、较为普及、有代表性的真空化学热处理的两个基础工艺——真空渗碳、离子渗碳的某些技术关键的进展情况。如发挥真空渗碳的特性,选择真空渗碳介质,克服碳黑污染,渗层均勾性的控制,真空渗碳设备的改进问题等;又如离子渗碳辉光放电电源选择,供排气系统的安置,阴极村料与结构设计,炉压与炉温的测量,渗剂成分及其供应,工艺操作问题,设备问题和机理的研究问题等。这篇文章根据过去的实践对某些问题提出了自己的看法和对未来的发展的预测。

  • 【DOI】10.14024/j.cnki.1004-244x.1988.04.011
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