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钛酸铋薄膜退火时间的研究

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【作者】 苏学军李岩张金春

【Author】 SU Xue-jun 1, LI Yan 2 ,ZHANG Jin-chun 1 (1.Department of Basic Sciences, NAEI, Yantai 264001,China;2.Department of Automatic Control Engineering, NAEI, Yantai, 264001 China)

【机构】 海军航空工程学院理化教研室海军航空工程学院电工教研室海军航空工程学院理化教研室 烟台264001烟台264001烟台264001

【摘要】 采用金属有机化学气相沉积工艺和快速退火工艺 ,在硅 (10 0 )基片上制备高度择优取向的Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜 ,运用X射线衍射术分析薄膜材料的结构 ,通过测量材料的电滞回线和漏电流密度 ,研究快速退火对Bi4 Ti3 O12 薄膜电性能的影响。在优化的工艺条件下 ,Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜的剩余极化强度 (Pr)为 8μC/cm2 ,漏电流密度为 10 -11A/cm2 。

  • 【DOI】10.14024/j.cnki.1004-244x.2002.05.009
  • 【分类号】TB43
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】111
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