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铝合金硅酸盐系微弧氧化陶瓷层形成机制的研究

熊仁章雷廷权王永康甄良

哈尔滨工业大学宁波市表面工程研究中心哈尔滨工业大学 黑龙江 哈尔滨 1500001 宁波市表面工程研究中心浙江 宁波 315103黑龙江 哈尔滨 150001

摘要:选择硅酸盐系电解液,用微弧氧化方法在LY12基体上制备了陶瓷层。用扫描电镜、能谱仪等研究了不同氧化时间形成陶瓷层的成分分布和组织变化规律。结果表明:氧化初期,陶瓷层生长主要是疏松层的增厚过程;在60-180min的氧化中期,陶瓷层增厚包括了疏松层生长和致密层生长两个过程,前半段由疏松层向外生长为主,后半段以致密层向基体内部生长为主;氧化后期,两层的生长速率及层厚基本持平,陶瓷层生长速率明显降低。
  • DOI:

    10.14024/j.cnki.1004-244x.2004.06.001

  • 专辑:

    工程科技Ⅰ辑; 工程科技Ⅱ辑

  • 专题:

    无机化工

  • 分类号:

    TQ174

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