节点文献

钕在氟氧化物和氧化物玻璃中的光谱分析

免费订阅

【作者】 侯朝霞

【Author】 HOU Zhao-xia1,2 (1. School of Materials and Chemical Engineering, Changchun University of Science and Technology, Changchun 130022, China; 2. Jilin Institute of Chemical Technology, Jilin 132022, China)

【机构】 长春理工大学材料与化工学院 吉林长春130022吉林化工学院化学工程系吉林132022

【摘要】 采用熔融法分别制备出掺钕氟氧化物玻璃和锂铝硅氧化物玻璃。采用UV-vis-NIR分光光度计和荧光光谱仪测定两种玻璃基质材料的透过率、吸收光谱和荧光光谱。紫外光区透过率的细微差异是氧化物和氟化物电子构型不同造成的。可见光和红外光区透过率差异是阳离子半径不同和基质材料密度不均匀引起的。主要吸收峰位于523、582、744、802、870nm处,分别对应于钕离子的4I9/2→4G7/2、4I9/2→2H11/2、4I9/2→4F7/2、4I9/2→4F5/2和4I9/2→4F13/2吸收跃迁。位于892、1057、1107、1333nm处的荧光发射中心,分别对应于钕离子的4F3/2→4I9/2、4F3/2→4I11/2和4F3/2→4I13/2辐射跃迁。氟氧化物玻璃在892、1107、1333nm处的荧光光谱强度明显高于氧化物玻璃,两者在1057nm处的发光强度基本一致。由于钕离子进入低声子能量的氟化物中,无辐射跃迁损失小,氟氧化物玻璃基质的量子效率高于氧化物玻璃基质的量子效率。

【关键词】 激光材料玻璃光谱分析稀土钕离子
【基金】 教育部优秀青年教师资助计划(KB20026)
  • 【分类号】TQ171.1
  • 【被引频次】8
  • 【下载频次】163
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

浏览历史:
下载历史: