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透明屏蔽材料的研究现状及展望

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【作者】 袁林生沈晓冬崔升范凌云

【Author】 YUAN Lin-sheng,SHEN Xiao-dong,CUI Sheng,FAN Lin-yun (College of Material Science and Technology, Nanjing University of Technology,Nanjing 210009,China)

【机构】 南京工业大学材料科学与工程学院南京工业大学材料科学与工程学院 江苏南京210009江苏南京210009

【摘要】 阐述了研究透明屏蔽材料在军用和民用事业上的重要意义。在分析屏蔽材料作用机理的基础上,提出屏蔽材料能够透光对导电粒子的要求,同时介绍当前透明屏蔽材料的两个热点研究方向,对薄膜型透明屏蔽材料和互穿网络结构型透明屏蔽材料的研究现状做了详细的叙述。在总结上述两种材料各自特点的基础上,提出具有一定厚度的均匀复合体材料才是将来最理想的透明屏蔽材料,并对透明屏蔽体材料的研究和发展趋势作了简要的阐述和展望。

【关键词】 电磁屏蔽透明综述导电薄膜互穿网络结构
【基金】 中国人民解放军总装备部预研管理中心项目(41312030312)
  • 【分类号】TB34
  • 【被引频次】12
  • 【下载频次】446
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