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热氧化温度对非平衡磁控溅射TiN镀层的影响

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【作者】 梁戈白力静蒋百灵

【Author】 LIANG Ge,BAI Lijing,JIANG Bailing(School of Material Science and Engineering,Xi’an University of Technology,Xi’an 710048,China)

【机构】 西安理工大学材料科学与工程学院

【摘要】 通过SEM和XRD法,研究不同热氧化温度下闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备的TiN镀层形貌、相结构及性能的变化。结果表明:非平衡磁控溅射离子镀TiN镀层在700℃以下性能基本稳定,具有良好的热氧化性能,尽管600℃时生成少量TiO2相,但600℃之前断口形貌及组织结构保持稳定;700℃时镀层的单位质量氧化增重率迅速增加,氧化曲线出现拐点,镀层失效。

【关键词】 TiN镀层热氧化非平衡磁控溅射
【基金】 国家“863”科技攻关项目(2005AA33H010);西安理工大大学科研基金项目(101-210603)
【所属期刊栏目】 试验研究 (2009年04期)
  • 【DOI】10.14024/j.cnki.1004-244x.2009.04.014
  • 【分类号】TG174.4
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】131
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