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热压烧结C_p/SiC复合材料的低温氧化行为研究

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【作者】 张云龙张瑞霞冯元亮陈斌王丹张海杰

【Author】 ZHANG Yunlong,ZHANG Ruixia,FENG Yuanliang,CHEN Bin,WANG Dan,ZHANG Haijie(College of Material Science and Engineering,Jiamusi University,Jiamusi 154007,China)

【机构】 佳木斯大学材料科学与工程学院

【摘要】 采用热压烧结技术成功制备Cp/SiC基复合材料,并对其进行短时间低温氧化行为研究。针对不同碳粉含量的Cp/SiC复合材料,分析氧化处理过程对其相组成、氧化层结构以及质量损失行为的影响。研究结果表明,随着碳粉含量增加,氧化层表面的孔洞尺寸和深度均呈现出增加的趋势。氧化层与碳化硅基体的分界清晰,无过渡区,不能形成致密氧化层,反应氧化层厚度也逐渐增加。添加碳粉不利于SiC基复合材料的抗氧化性的改善。

【基金】 佳木斯大学人才培养基金项目(编号RC2010-029)
【所属期刊栏目】 试验研究 (2010年06期)
  • 【DOI】10.14024/j.cnki.1004-244x.2010.06.004
  • 【分类号】TB332
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】117
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