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不同轰击能量下CrN硬质薄膜的生长方式和择优取向变化

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【作者】 梁柔徐雪波鲍明东江利

【Author】 LIANG Rou1,2,XU Xuebo2,BAO Mingdong2,JIANG Li1(1.School of Material Science and Technology,China University of Mining and Technology,Xuzhou 221116,China; 2.Institute of Materials Engineering,Ningbo University of Technology,Ningbo 315016,China)

【通讯作者】 梁柔

【机构】 中国矿业大学材料科学与工程学院宁波工程学院材料工程研究所

【摘要】 用闭合场非平衡磁控溅射离子镀(CFUBMIP)系统沉积制备CrN硬质薄膜,通过调节偏压改变薄膜沉积过程中离子轰击能量。采用XRD分析薄膜的相结构,结合SEM和AFM对薄膜表面形貌和截面结构的观察,探讨离子轰击能量对CrN硬质薄膜生长方式以及取向的影响规律。结果表明,随着偏压从-60 V增大到-90 V,薄膜始终由CrN单相组成,且均呈柱状生长,但生长择优取向从(200)向(111)转变。偏压的变化主要通过改变离子轰击能量影响薄膜的生长机制,低偏压时以表面能主导,因此呈(200)择优取向生长,而高偏压时以应变诱导生长机制为主,呈(111)择优取向生长。

【所属期刊栏目】 试验研究 (2011年02期)
  • 【DOI】10.14024/j.cnki.1004-244x.2011.02.005
  • 【分类号】TB383.2
  • 【被引频次】16
  • 【下载频次】318
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