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摘要:采用直流磁控溅射在表面氧化的Si(001)基片上制备了FePt/C纳米薄膜,将薄膜样品经过600℃真空退火处理1h获得L10-FePt薄膜。用X射线衍射仪(XRD)、振动样品磁强计(VSM)和扫描探针显微镜(SPM)对样品的结构、磁性和表面形貌进行测量和分析。结果表明:随着C底层厚度的增加,L10-FePt薄膜(001)取向度增强,有序化程度提高,矫顽力增大;C溅射时间为180s时,获得了具有(001)织构生长的L10-FePt薄膜。
  • DOI:

    10.14024/j.cnki.1004-244x.2011.04.001

  • 专辑:

    工程科技Ⅰ辑; 工程科技Ⅱ辑; 基础科学

  • 专题:

    物理学; 工业通用技术及设备

  • 分类号:

    O484.1

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