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磁力搅拌-脉冲电沉积Ni-P-SiC镀层制备工艺研究

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【作者】 王勇夏法锋尹红妍朱砚葛

【Author】 WANG Yong1,XIA Fafeng1,YIN Hongyan1,ZHU Yange2 (1.School of Mechanical Science and Engineering,Northeast Petroleum University,Daqing 163318,China; 2.School of Electrical and Information,Northeast Petroleum University,Daqing 163318,China)

【机构】 东北石油大学机械科学与工程学院东北石油大学电气信息工程学院

【摘要】 采用磁力搅拌-脉冲电沉积法在45钢表面制备Ni-P-SiC镀层。采用正交试验法优化Ni-P-SiC镀层的制备工艺,利用扫描电镜(SEM)和磨损试验机进行Ni-P-SiC镀层表面形貌及耐磨性能分析。结果表明,磁力搅拌-脉冲电沉积复合制备Ni-P-SiC镀层的最佳工艺为:磁力搅拌速率200r/min,脉冲占空比2∶1,脉冲电流密度4A/dm2,SiC粒子的质量浓度6g/L。1号试样的磨损较严重,磨损量为5.1mg;6号试样的磨损则较轻,磨损量为2.7mg。

【关键词】 Ni-P-SiC镀层制备工艺优化
【基金】 黑龙江省教育厅科学技术研究项目(12531084)
【所属期刊栏目】 试验研究 (2013年03期)
  • 【DOI】10.14024/j.cnki.1004-244x.2013.03.031
  • 【分类号】TG174.4
  • 【被引频次】2
  • 【下载频次】115
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