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模具自由曲面变轨迹抛光技术研究

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【作者】 吴晓君马长捷陈竹祁玫丹

【Author】 WU Xiaojun;MA Changjie;CHEN Zhu;QI Meidan;School of Mechanical and Electrical Engineering,Xi′an University of Architecture and Technology;

【机构】 西安建筑科技大学机电工程学院

【摘要】 针对模具自由曲面抛光效率低、磨粒抛光轨迹均匀性差的问题,提出一种变轨迹弹性抛光轮技术。介绍了弹性抛光轮工具的工作原理与机械结构设计,以Preston方程结合赫兹接触理论为指导,对抛光接触区内的压力分布、速度分布和磨粒抛光轨迹均匀性进行研究,建立抛光工具的材料去除模型。基于运动学模型,利用Matlab对弹性抛光轮工具在不同转速比下的抛光轨迹进行仿真,并根据均匀性评价标准对仿真结果进行对比分析。结果表明:转速比对磨粒抛光轨迹均匀性有重要影响,在下压量为0.5 mm、抛光接触圆直径为5 mm、公转3周时,转速比为10.645 751的CV值比转速比为10时降低了32%;当转速比趋于无理数时,抛光轨迹均匀性明显优于整数转速比,去除函数更加饱满。

【基金】 国家自然科学基金(51375361)
【所属期刊栏目】 试验研究 (2017年03期)
  • 【DOI】10.14024/j.cnki.1004-244x.20170427.001
  • 【分类号】TG580.692;TG76
  • 【被引频次】2
  • 【下载频次】200
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