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电流密度对Al-Si合金微弧氧化膜结构及耐蚀性的影响

鲁闯1,2谢发勤1朱利萍2刘国孝2

1. 西北工业大学2. 中国兵器科学研究院宁波分院

摘要:采用微弧氧化技术在Al-Si合金表面制备氧化物陶瓷膜层,利用激光共聚焦显微镜、SEM、EDS、XRD、极化曲线等测试方法研究电流密度对Al-Si合金微弧氧化膜层的生长过程、微观结构、元素成分、相组成和耐蚀性的影响规律。结果表明:随电流密度的增大,起弧所需时间减短,膜层厚度和粗糙度均增加,膜层生长速率先增大后减小。电流密度较小时,氧化膜生成相为γ-Al2O3,当电流密度达到13.3 A/dm2时,氧化物生成相出现α-Al2O3和莫来石相。当电流密度小于16.6 A/dm2时,氧化膜的耐蚀性随电流密度增大而增强;当电流密度大于16.6 A/dm2时,氧化膜耐蚀性能降低,相对于合金基体,氧化膜始钝电位降低,维钝电流密度降低两个数量级。
  • DOI:

    10.14024/j.cnki.1004-244x.20170706.002

  • 专辑:

    理工B(化学化工冶金环境矿业); 理工C(机电航空交通水利建筑能源)

  • 专题:

    金属学及金属工艺

  • 分类号:

    TG174.453

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