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RF溅射Ta-10W合金薄膜性能与沉积参数的关系

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【作者】 王伟民徐天祥

【Author】 Wang Weimin(Ningbo Branch of No.52 Institute of China Ordnance Industry.Ningbo 315040); Xu Tianxiang

【机构】 五二研究所宁波分所南京理工大学

【摘要】 利用RF溅射技术在PCrNi2MoVA基上沉积Ta-10W合金薄膜,利用扫描电镜等分析手段研究了薄膜的沉积速率、断口的组织形貌与沉积参数之间的关系。结果表明,沉积速率随功率的增加而线性增加,随Ar气压强的增加呈非线性增加,基底无论加正偏压还是加负偏压都使沉积速率下降。薄膜的组织形貌随Ar气压强的增加由纤维组织变为粗大锥状晶。气压越高,组织越粗大,孔洞尺寸也越大。基底加偏压使组织细化。

【关键词】 溅射沉积速率断口形貌
  • 【分类号】TN305.92
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