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循环氩离子轰击-等离子体增强化学气相沉积 TiN 膜组织与性能研究

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【作者】 谢飞袁军伟何家文

【Author】 Xie Fei, Yuan Junwei, He Jiawen

【机构】 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室

【摘要】 分析对比了常规PECVDTiN膜与循环氩离子轰击-PECVDTiN膜组织与性能的差异。结果表明,循环氩离子轰击-PECVDTiN膜较之常规PECVDTiN膜,其组织细小致密,膜内残余氯含量显著降低,膜的硬度与耐磨性提高,但膜-基体结合强度没有显著改变。

【关键词】 PECVDTiN循环Ar~+轰击组织性能
【基金】 国家自然科学基金
  • 【分类号】TG113,TG113
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】42
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