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Nb,Mo,Ti,Ta,W掺杂硅化石墨扫描电镜研究

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【作者】 葛学贵曹宏黄少云陈亦凡靳化才杨蜜纯

【Author】 Ge Xue gui 1,Cao Hong 1,Huang Shao yun 2,Chen Yi fan 1,Jin Hua cai 1,Yang Mi chun 1( 1.Faculty of Materials Science and Chemical Engineering,China University of Geosciences, Wuhan Hubei 430074,China;2.Wuhan Institute of Chemical Technology,Wu

【机构】 中国地质大学材料科学与化学工程学院武汉化工学院中国地质大学材料科学与化学工程学院 湖北武汉430074湖北武汉430074湖北武汉430073湖北武汉430074

【摘要】 以硅粉的 1% ,2 %~ 10 % ( w B)将 Nb,Mo,Ti,Ta,W等 5种金属粉掺入硅粉中 ,用液硅渗透法 ( LSP)制备出系列掺杂硅化石墨样品。对这些样品抗折、抗拉强度测试结果表明 :Nb( 6 % ) -硅化石墨性能最优 ,抗拉强度提高了 2 0 %~ 2 7% ;Mo( 1% )、Mo( 5 % )掺杂效果次之 ;而 Ti( 7% )、Ta( 3% )、W( 7% )等的掺杂反使材料强度降低。扫描电子显微镜 ( SEM)分析显示 :Nb( 6 % )掺杂使抗拉强度增强的原因在于 ,新的铌与碳的间隙化合物相的生成 ,减小了硅化石墨显微结构的尺寸 ,且使材料外层及内核结构均匀、致密、统一 ,因而能有效分散应力集中 ,缓冲裂纹扩张 ,增大承载截面 ,从而提高材料力学性能。相反 Ti( 7% )、Ta( 3% )等掺杂后 ,尽管使材料外层结构致密 ,但内部结构疏松 ,晶粒、孔隙尺寸大小不一 ,形态各异 ,内、外结构极不统一 ,导致材料性能下降

【基金】 国家自然科学基金资助项目 ( 4 9872 0 2 1);中国地质大学岩石矿物应用开发实验室基金资助项目
  • 【分类号】P619.252
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】132
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