节点文献

制作光纤光栅用相位掩模的衍射行为研究

免费订阅

【作者】 刘全吴建宏陈刚方玲玲

【Author】 LIU Quan,WU Jianhong,CHEN Gang,FANG Lingling(Information Optics Engineering Institute,Soochow University,Suzhou 215006,China)

【机构】 苏州大学信息光学工程研究所苏州大学信息光学工程研究所 江苏苏州215006江苏苏州215006

【摘要】 利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究。研究发现,在紫外写入波长(248 nm)下,为了使零级衍射效率<5%,且±1级的衍射效率>35%,相位掩模的刻槽深度必须控制在230~280 nm,占宽比必须控制在0.48~0.65。同时,与标量衍射理论的结果进行了分析对比。这些都为相位掩模的实际制作提供了有意义的结果。

【基金】 江苏省高技术研究计划资助项目(BG2004020);苏州大学青年教师研究基金资助项目(Q3210525)
  • 【DOI】10.13756/j.gtxyj.2006.03.018
  • 【分类号】TN253
  • 【被引频次】6
  • 【下载频次】264
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

浏览历史:
下载历史: