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水对常压CVD法制备SnO2:F透明导电薄膜雾度的影响

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【作者】 陈峰张振华赵会峰赖新宇姜宏

【Author】 CHEN Feng;ZHANG Zhenhua;ZHAO Huifeng;LAI Xinyu;JIANG Hong;Key Laboratory of Special Glass in Hainan province, Hainan University;State Key Laboratory of Special Glass in Hainan Province, AVIC (Hainan) Special Glass Materials Co., Ltd.;AVIC (Hainan) Special Glass Technology Co., Ltd.;

【机构】 海南省特种玻璃重点实验室海南大学海南省特种玻璃国家重点实验室海南中航特玻材料有限公司海南中航特玻科技有限公司

【摘要】 为制备高雾度、高透过和高导电透明导电薄膜玻璃,采用常压CVD法在硼硅玻璃基板上分别以单丁基三氯化锡(MBTC)为前驱物、三氟乙酸(TFA)为掺杂剂、去离子水为催化剂,制备了Sn O2:F透明导电薄膜。研究了不同水用量对薄膜雾度的影响,并分析影响雾度变化的机理。结果表明:通过调节水的用量可实现高雾度、高透过和高导电薄膜的生成。随着水用量的增加,薄膜平均晶粒尺寸、结晶度和雾度先增大后减小;当水用量为MBTC摩尔量的1.5倍时,制备出雾度为14.3%、可见光透过率为76.8%、方块电阻为3.2?/□的薄膜。水的加入和用量的调节有效的解决了雾度和透过率之间相互影响的难题。

【基金】 国家科技支撑计划项目(2013BAJ15B04);海南省重大科技项目(ZDZX2013002-2)资助
  • 【DOI】10.14062/j.issn.0454-5648.2016.04.15
  • 【分类号】TB383.2
  • 【被引频次】6
  • 【下载频次】102
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