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X射线荧光光谱法测定硅片中锑、砷、磷

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【作者】 于磊胡芳菲宋永清

【Author】 Yu Lei;Hu Fangfei;Song Yongqing;Guobiao (Beijing) Testing & Certification Company Limited;

【通讯作者】 于磊;

【机构】 国标(北京)检验认证有限公司

【摘要】 利用X射线荧光光谱法直接测定硅片中锑、砷、磷三个主要元素,选择化学法标定的硅片作为标准,通过仪器绘制标准曲线,计算各元素的检出限及各元素的精密度。用电感耦合等离子体光谱法定量分析三个元素,将两种方法的结果进行比对,所得结果基本一致。因此,通过仪器法和化学法的比较,表明该法与常规化学分析相比,具有简便、成本低、分析速度快,准确等优点。

【关键词】 X射线荧光光谱法硅片定量分析
【所属期刊栏目】 研究论文 (2019年11期)
  • 【DOI】10.19500/j.cnki.0367-6358.20180602
  • 【分类号】O657.34;O613.72
  • 【下载频次】55
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