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对涂胶显影机与光刻机内联控制的研究

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【作者】 王绍勇黄琳琳

【机构】 沈阳芯源微电子设备有限公司

【摘要】 光刻工艺是集成电路制造(前道)过程中的重要环节。在集成电路制造过程中,通常将涂胶显影机与光刻机相连接,进行一体化加工。目前,国产涂胶显影机与光刻机的内联控制在技术资料等资源方面相对匮乏,从机械接口形式、通信协议、调度、故障处理等方面综合分析研究。

【关键词】 光刻机涂胶显影机内联
【基金】 沈阳市重大共性关键技术创新专项(17-92-0-00)
【所属期刊栏目】 工程科技与产业发展 (2018年33期)
  • 【分类号】TN405
  • 【下载频次】88
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