节点文献

Ce:Cu:LiNbO3晶体抗光致散射性能研究

免费订阅

【作者】 杨飞黄金哲

【机构】 哈尔滨理工大学应用科学学院哈尔滨理工大学应用科学学院 黑龙江哈尔滨150080黑龙江哈尔滨150080

【摘要】 用提拉法从熔体生长出来了Ce(0.09%),Cu(0.01%)LiNbO3(Ce:Cu:LiNbO3)晶体,切割后分别对其中两块晶体进行氧化和还原处理,对晶体的抗光致散射能力和衍射效率测试表明,晶体的抗光致散射能力和衍射效率与氧化、还原处理条件有密切关系,其对晶体进行大容量体全息存储起重要作用。

【所属期刊栏目】 机械与电子 (2007年07期)
  • 【分类号】TQ594
  • 【下载频次】41
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

浏览历史:
下载历史: