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氮分压对Ta-Ru-N薄膜微观组织和性能的影响

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【作者】 郭帅东王广欣李浩翔孙浩亮逯峙唐坤

【Author】 GUO Shuaidong;WANG Guangxin;LI Haoxiang;SUN Haoliang;LU Zhi;TANG Kun;Materials Science & Engineering School,Henan University of Science & Technology;Henan Engineering Research Center for High Purity Materials & Sputtering Targets,Henan University of Science & Technology;Luoyang Key Laboratory of High Purity Materials & Sputtering Targets,Henan University of Science & Technology;College of Animal Science &Technology,Guangxi University;

【通讯作者】 王广欣;

【机构】 河南科技大学材料科学与工程学院河南科技大学河南省高纯材料及溅射靶材工程研究中心河南科技大学洛阳市高纯材料及溅射靶材重点实验室广西大学动物科学技术学院

【摘要】 采用反应磁控溅射技术,在单晶Si(100)面基底上制备了4个氮分压条件下Ta-Ru-N扩散阻挡层薄膜。通过X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱(EDS)、透射电子显微镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)以及四探针电阻测试仪(FPP),对所制备薄膜的相结构、表面形貌和电学性能进行了表征,研究了氮分压对薄膜微观组织和性能的影响。研究结果表明:制备的Ta-Ru-N薄膜为非晶态,适量氮气的加入能够提高薄膜表面的平整度,薄膜方阻随着氮分压的增加而逐渐增加。

【关键词】 磁控溅射扩散阻挡层Ta-Ru-N方块电阻
【基金】 国家自然科学基金项目(U1504516);河南省高等学校重点科研基金项目(16A430016);河南省高等学校学科创新引智基地基金项目
【所属期刊栏目】 材料科学与工程 (2020年04期)
  • 【DOI】10.15926/j.cnki.issn1672-6871.2020.04.002
  • 【分类号】TB383.2
  • 【下载频次】25
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