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多壁碳纳米管薄膜场发射规律实验研究(英文)

谭大刚罗宏超

沈阳师范大学物理科学与技术学院沈阳师范大学物理科学与技术学院 辽宁沈阳110034

摘要:研究了CVD法定向生长的多壁碳纳米管薄膜的在高电压条件下场发射特性 .我们发现在固定电压条件下发射电流和时间的关系按指数规律减弱 .另一个值得关注的现象是碳纳米管的发射性能的不可恢复性损坏 .电流电压关系也由幂次关系I =aVb 改变为幂次关系I =a(V -V0 ) b′,其中 ,b和b′的值均为 2~ 3.最后讨论了电流减弱的原因
  • 专辑:

    理工A(数学物理力学天地生); 理工B(化学化工冶金环境矿业)

  • 专题:

    材料科学

  • 分类号:

    TB383

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