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水质对UV/H2O2降解LAS的影响及机理

潘晶于龙张阳王艳

沈阳师范大学化学与生命科学学院沈阳师范大学化学与生命科学学院 辽宁沈阳110034东北大学资源与土木工程学院辽宁沈阳110004

摘要:研究了UV/H2O2工艺对LAS的去除效果以及水的pH、浊度对LAS降解的影响和机理.结果表明:UV/H2O2工艺可以有效的去除水中LAS,光降解过程符合一级反应动力学模型;在H2O2投加量为8 mg.L-1,14 W低压汞灯照射下,LAS在蒸馏水中光降解速率常数为0.018 1 min-1;在酸性条件下,有利于LAS光降解;浊度大于6NTU时,光降解速率常数迅速下降.
  • 专辑:

    理工A(数学物理力学天地生); 理工B(化学化工冶金环境矿业)

  • 专题:

    环境科学与资源利用

  • 分类号:

    X703

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