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磁控溅射与电弧离子镀制备TiN薄膜的比较

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【作者】 李鹏黄美东佟莉娜张琳琳王丽格李晓娜

【Author】 LI Peng1,HUANG Meidong1,TONG Lina1,ZHANG Linlin1,WANG Lige1,LI Xiaona2 1.College of Physics and Electronic Information Science,Tianjin Normal University,Tianjin 300387,China; 2.Key Laboratory of Materials Modification by Laser,Ion and Electron Beams,Dalian University of Technology, Dalian 116024,Liaoning Province,China

【机构】 天津师范大学物理与电子信息学院大连理工大学三束重点实验室

【摘要】 分别采用磁控溅射和电弧离子镀在抛光后的W18Cr4V高速钢基体表面沉积TiN膜层,利用纳米力学系统、扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜进行测试,比较了两种方法所制备的薄膜的异同.结果表明:磁控溅射所制备的薄膜表面平整,但沉积速率和硬度均低于电弧离子镀制备的薄膜.

【关键词】 TiN磁控溅射电弧离子镀
【基金】 国家自然科学基金资助项目(61078059);天津师范大学学术创新推进计划资助项目(52X09038)
  • 【分类号】O484.4
  • 【被引频次】34
  • 【下载频次】964
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