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钽掺杂二氧化钛薄膜的光电性能研究

薛将潘风明裴煜

南京航空航天大学应用物理系

摘要:采用脉冲激光沉积法(PLD),以石英玻璃为衬底制备了钽掺杂TiO2薄膜并研究了薄膜样品的光电性质.沉积氧气分气压从0.3Pa变化到0.7Pa时薄膜样品的帯隙变化范围是3.26eV到3.49eV.通过测量电阻率随温度的变化关系确定了薄膜内部的主要导电机理.在150K到210K温度范围内,热激发导电机理是主要的导电机理;而在10K到150K范围内;电导率随温度的变化复合Mott的多级变程跳跃模型(VRH);在210K到300K范围内,电阻率和exp(b/T)1/2呈正比关系.
  • 专辑:

    理工A(数学物理力学天地生); 理工C(机电航空交通水利建筑能源)

  • 专题:

    物理学; 工业通用技术及设备

  • 分类号:

    O484.41

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