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摘要:为了研究碳纳米管薄膜的强流脉冲发射特性,采用酞菁铁高温热解方法在机械抛光铜基底上直接生长了碳纳米管薄膜(Cu-CNTs),Cu-CNTs生长方向各异.在20GW脉冲功率源系统中采用二极结构对Cu-CNTs的强流脉冲发射特性进行研究,研究结果表明:在单脉冲发射条件下,随脉冲电场峰值的增大,Cu-CNTs薄膜的发射电流峰值呈线性增加,当宏观场强为15.5V/μm时,发射脉冲电流的峰值可达到5.56kA,对应的发射电流密度0.283kA/cm2,当宏观场强达到32.0V/μm时,发射脉冲电流的峰值可达到18.19kA,对应的发射电流密度0.927kA/cm2,发射电流能力明显优于已有报道.在相同峰值,连续多脉冲情况下,碳纳米管薄膜具有良好的发射可重复性,且发射性能稳定.
  • 专辑:

    理工A(数学物理力学天地生); 理工B(化学化工冶金环境矿业); 理工C(机电航空交通水利建筑能源)

  • 专题:

    物理学; 材料科学; 工业通用技术及设备

  • 分类号:

    TB383.2;O484.1

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