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共溅射CdTe掺Nd薄膜的结构和电导性能

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【作者】 郑毓峰陈树义李锦简基康李冬来马忠权常爱民

【Author】 ZHENG Yu feneg 1, CHENG Shu yi 1, LI Jin 1, JIAN Ji kang 1, LI Dong lai 1, MA Zhong quan 1, CHANG Ai ming 2 (1.Department of Physics, Xinjiang University, Urumqi, Xinjiang 830046, China; 2. Institute of Physics, Xinjiang CAS, 830000)

【机构】 新疆大学物理系中国科学院新疆物理所 新疆乌鲁木齐830046新疆乌鲁木齐830046新疆乌鲁木齐830000

【摘要】 采用共溅射法在 ITo/玻璃基片上沉积 Cd Te掺 Nd薄膜 ,并利用 XRD和阻抗测试研究薄膜的结构和电导性能 .结果表明 ,适当 Nd掺入可以改善 Cd Te薄膜结晶特征和电导性能

【关键词】 共溅射CdTe薄膜电导晶界电阻
【基金】 国家自然科学基金资助项目 (5 9862 0 0 2 )
  • 【分类号】O484
  • 【被引频次】8
  • 【下载频次】54
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