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磁性多层膜中保护层厚度对磁性层NiFe的影响

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【作者】 卡马勒·托克达尔汗拜山·沙德克

【Author】 Kamal Tohtarhan,Beysen Sadeh (College of Physics Science and Technology,Xinjiang University,Urumqi,Xinjiang 830046,China )

【机构】 新疆大学物理科学与技术学院

【摘要】 本文主要讲述了SV-TMR结构中以自由层为模拟的多层膜SiO2/NiFe/Ta与SiO2/NiFe/Ru中,不同厚度的保护层钽(Ta)和钌(Ru)对磁性层NiFe的影响.我们采用振动样品磁强计(VSM)和X射线衍射仪(XRD)对该薄膜进行了结构测试和深度剖析,结果表明:改变保护层厚度时,两种样品的饱和磁化强度不变,随Ru厚度的增加,样品SiO2/NiFe/Ru的矫顽力也增加.同时用XRD测量发现,以Ru为保护层生长的样品比Ta为保护层生长的样品具有更好的织构,更好的结晶性.Ru比Ta更适合做磁电阻多层膜的保护层.

【关键词】 磁性薄膜自由层保护层
【基金】 国家自然科学基金资助项目(50661005);国家教育部留学回国人员科研启动基金资助项目(030205);新疆大学博士启动基金资助项目(BS050101)
【所属期刊栏目】 数理科学 (2010年03期)
  • 【分类号】O484.43
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】45
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