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金属Y掺杂Mo-N薄膜的机械性能和摩擦学性质研究

栾书多张佳鑫顾广瑞

延边大学理学院

摘要:利用射频磁控和直流磁控共溅射的方法制备了金属Y掺杂的Mo-N薄膜.对制备的薄膜样品进行元素组成、微观结构、表面形貌、摩擦学性质分析显示:薄膜的择优取向由未掺杂时的γ-Mo2N (111)改变为Y掺杂后的γ-Mo2N (200).与未掺杂的Mo-N薄膜相比较,所制备的MoYN薄膜的硬度明显降低,但耐磨性和平均摩擦系数均有所改善.其中Y掺杂含量为9.44at%时,薄膜的耐磨性为最佳,平均摩擦系数为最小(0.283),硬度为(24.13±3.15) GPa.
  • DOI:

    10.16379/j.cnki.issn.1004-4353.2020.02.005

  • 专辑:

    基础科学; 工程科技Ⅰ辑; 工程科技Ⅱ辑

  • 专题:

    材料科学; 工业通用技术及设备

  • 分类号:

    TB383.2

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