摘要：为精确控制超光滑表面抛光过程中抛光液的温度,根据温控基本原理设计温控装置结构.将用UG建立的温控装置模型导入GAMBIT中进行温度场分析.针对装置内部温度分布不均匀问题,对其结构进行优化:在装置内加入导热隔板将其分为工作区和调温区,制冷器被置于调温区内;将温控装置的外形结构加入过渡圆角.结果表明:优化后的温控装置形成内外环流,工作区温度波动范围为±0.01℃,温度分布均匀对称,满足高精度温控的恒温和匀温要求.
- 专辑：
电子技术及信息科学
- 专题：
自动化技术
- 分类号：
TP273
引文网络
相关推荐
- 相似文献
- 读者推荐
- 相关基金文献
- 关联作者
- 相关视频
