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RF溅射Ta-10W合金薄膜性能与沉积参数的关系

王伟民徐天祥

五二研究所宁波分所南京理工大学

摘要:利用RF溅射技术在PCrNi2MoVA基上沉积Ta-10W合金薄膜,利用扫描电镜等分析手段研究了薄膜的沉积速率、断口的组织形貌与沉积参数之间的关系。结果表明,沉积速率随功率的增加而线性增加,随Ar气压强的增加呈非线性增加,基底无论加正偏压还是加负偏压都使沉积速率下降。薄膜的组织形貌随Ar气压强的增加由纤维组织变为粗大锥状晶。气压越高,组织越粗大,孔洞尺寸也越大。基底加偏压使组织细化。
  • 专辑:

    理工B(化学化工冶金环境矿业); 理工C(机电航空交通水利建筑能源); 电子技术及信息科学

  • 专题:

    无线电电子学

  • 分类号:

    TN305.92

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